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铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术_百度文库
摘要 对铟锡氧化物 ( ITO ) 靶材的现有生产工艺方案和应用现状及前景作了综 合评述. 提出了 ITO 靶材成形的新方案——动态成形 技术. 关键词 ITO ; 靶材成形; ITO 粉末; 应用 中图分
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大尺寸氧化铟锡(ITO)靶材制备研究进展
2022年6月17日 氧化铟锡 (Indium Tin Oxide，ITO)是一种应用最广泛的 n 型透明导电氧化物，具有优异的光电性能 [ 1] 。. 经磁控溅射 [ 2] 、脉冲激光沉积 [ 3] 、化学气相沉积 (CVD) [ 4] 、电子束蒸发 [ 5] 、喷雾热解 [ 6] 、
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纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备 - buct.cn
2016年1月4日 技术简介. 氧化铟锡（indium-tin-oxide）简称ITO，ITO靶材是一种功能陶瓷材料，主要用于制造 ITO透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米
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ITO制作工艺讲解_百度文库
ITO制作工艺讲解_百度文库. f的导电性能，ITO 膜之透过率和阻值分别由 In2O3 与 Sn2O3 之 比例控制，增加氧化锢比例则可提高 ITO 之透过率，通常 Sn2O3： In2O3=1：9 因为氧
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纳米ITO粉体的制浆工艺 - 百度学术
纳米ITO粉体的制浆工艺. 来自 百度文库. 喜欢 0. 阅读量： 195. 作者： 韦美琴 ， 张光胜 ， 秦艳 ， 朱协彬. 摘要： 用化学共沉淀法制得ITO粉体,通过剪切分散法制备ITO浆料, 采
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纳米氧化铟锡ITO粉末 - 广州宏武材料科技有限公司
纳米氧化铟锡ITO具有优良的电学和光学性质，包括导电性、透明性、隔热性、防紫外线等性能，根据不同的用途可以调整In2O3和SnO2的配比，从而得到不同特性的ITO纳米粉体
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ITO靶材生产制造领域制粉关键技术的研究_科创中国
2022年11月2日 ITO靶材生产制造领域制粉关键技术的研究. 发布时间: 2022-11-02. 来源: 科技服务团. 截止日期:2022-11-02. 价格 双方协商. 地区： 广西壮族自治区 柳州市 城中区.
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大尺寸氧化铟锡(ITO)靶材制备研究进展
2022年6月17日 由于生坯以及烧结炉中的氧气，ITO失氧分解及挥发得到有效抑制，从而以较短时间烧结制备得到大尺寸、高致密细晶粒的ITO靶材，制备的ITO靶材尺寸大于700 mm×500 mm，相对密度在99.5%以上，晶粒
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半导体氧化物陶瓷材料-- 氧化铟锡靶材 - 知乎
2023年3月9日 ITO溅射靶材是将氧化铟和氧化锡粉按一定比例混合后，在高温气氛（1600度，氧气烧结）中经过一系列生产工艺形成的黑灰色陶瓷半导体。主要用于磁控溅射制备高性能ITO光电薄膜，广泛应用于新型显示、电磁屏蔽、半导体
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伊升机电贸易（上海）有限公司
2019年9月13日 26. 2020.03. 公告. 伊升机电贸易（上海）有限公司深圳分公司迁址联络. 11. 2019.09. 公告. 伊升机电2019年中秋节及社员旅行放假安排. 根据《国务院办公厅关于2019年部分节假日安排的通知》，伊升机电2019年中秋节放假安排如下：2019年9月13日星期五.
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纳米ITO粉体的制浆工艺 - 百度学术
纳米ITO粉体的制浆工艺. 用化学共沉淀法制得ITO粉体,通过剪切分散法制备ITO浆料, 采用XRD,TEM和SEM等对粉体,浆料进行表征与分析,研究工艺参数对浆料稳定性的影响.结果表明,ITO粉体晶体呈立方铁锰矿型结构,平均晶粒尺寸 分布在20nm左右,由此粉体制取无水乙醇浆
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铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术_百度文库
ITO 靶材的应用就必须从 ITO 膜的应用出发 . 铟锡氧化物 ( ITO ) 薄膜具有对可见光透明和良好的导电性. 其对可见光透过率≥. 95% ; 对紫外线的吸收率≥85% ; 对红外线的反射率≥70% ; 对微波的衰减率≥85% , ITO. 膜层硬度高且耐磨耐蚀, 因而在工业上获得了广泛应用 ...
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昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境 ...
查看全文>>. 受业主委托，中国采招网于2022年07月18日发布昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书第一次公示;项目简介： 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书第一次公示 根据《中华人民共和国环境 ...
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纳米氧化铟锡ITO粉末 - 广州宏武材料科技有限公司
纳米氧化铟锡ITO具有优良的电学和光学性质，包括导电性、透明性、隔热性、防紫外线等性能，根据不同的用途可以调整In2O3和SnO2的配比，从而得到不同特性的ITO纳米粉体。. 其主要应用于红外吸收膜、隔热涂层、导电层、靶材、抗静电涂层和涂料等领域。. 纳米 ...
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一种由ITO废靶直接粉碎制粉并生产ITO靶材的制备方法与流程
2020年12月15日 本发明属于磁控溅射技术领域，尤其涉及一种由ito废靶直接粉碎制粉并生产ito靶材的制备方法。背景技术铟锡氧化物靶材，indiumtinoxide靶材，简称ito靶材，是氧化铟和氧化锡两种金属氧化物的混合物经高温烧结形成的陶瓷功能材料。由氧化锡掺杂氧化铟烧结的ito靶材，经真空磁控溅射镀膜后，可在 ...
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一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 - X技术网
2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1.本实用新型属于制粉技术领域，具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术： 2o（氧化铟锡）靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 由于对ito靶材的要求很高，在制作、清理、转运、包装和溅射使用过程中，因 ...
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ITO靶材氧化铟锡靶材-啟睿新材料
2023年4月13日 ITO 靶材 ITO靶材以磁控溅射等方式用于导电玻璃的制备. ITO镀膜具有导电性、对可见光的透明性以及对红外线的反射性三个特性，其广泛用于显示屏、玻璃幕墙、触摸屏、太阳能电池、雷达屏蔽、冰柜、防雾玻璃等产品，尤以显示屏为大宗。
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纳米ITO粉制备方法 - 知乎
2022年3月31日 对纳米材料的制备方法目前主要有三种分类方法。. 第一种是根据制备原料状态分为固体法、液体法及气体法 ;第二种按反应物状态分干法和湿法; 第三种分为物理法、化学法和综合法,现今多采用第三种分类方法。. ITO复合粉体的制备方法有很多种,常用的方法
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一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 - X技术网
2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1.本实用新型属于制粉技术领域，具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术： 2o（氧化铟锡）靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的
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工程建设验收公示网
发布时间：2023-08-29. 昆明裕隆电子材料有限公司应急预案备案前网络公示. 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目位于云南安宁产业园区（安宁片区）千亿级绿色新能源电池（新材料）产业园，总投资5000万元，其中环保投资125.2万元，租用昆明汇 ...
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“昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目” 配套 ...
2023年9月24日 2023年7月18日《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》取得昆明市生态环境局的批复（昆生环复﹝2023﹞41号）。现项目主体工程和配套环境保护设施已建成，根据《建设项目竣工环境保护验收管理办法》（国环规环评[2017]4号）的相关要求，现将该项目配套环境保护 ...
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ITO制作工艺讲解_百度文库
三、化学蚀刻法进行 ITO 图形制备. f1、蚀刻膏工艺 化学蚀刻法有以下几种方式实现：一种是直接在产品电极图形区 域外印制蚀刻膏，等反应完全后，用蚀刻膏溶剂，一般是水清洗 干净，留下所需的电极图形。. 这种方式对于一些线宽和线距要求 在 0.2mm 以上的 ...
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ITO制粉
ITO靶材应用技术行业发展现状中华全触网 2013年5月13日 ITO靶材从原材料铟锭开始制粉,因为ITO粉末是ITO靶材重要的材料,铟锭生产成ITO粉再经过磨压、烧结之后供给客户使用,在这点上,我们具有自主知识产权不...
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昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目 ...
2022年11月10日 昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目，关于昆明裕隆电子材料有限公司在云南省 - 昆明市由唐联云委托云南保兴环境科技咨询有限公司的姓名:彭小琴，职业资格证书管理号:2013035530350000003512530114，信用编号：BH016387 编制的
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【新领域探索】——ITO靶材 - 知乎
2023年5月9日 目前，ITO靶材主要应用于以下几个领域：. （1）显示器件：LCD、PDP、OLED等。. （2）太阳能电池：ITO薄膜可以使光线更好地照射到太阳能电池组件中，提高电池的发电效率。. （3）触摸屏：ITO薄膜具有优异的导电性能和透明性能，经常被用作触摸屏面板的导电层 ...
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昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO ...
受业主委托，中国采招网于2023年06月30日发布昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》的公示;项目简介： 根据建设项目环境影响评价审批的有关规定，现将拟审批的《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书 ...
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