2024年3月22日 打造首款国产碳化硅生产设备, 德国PVA TePla集团助力中国半导体产业高质发展. 中国,上海—2024年3月20日, 半导体 行业盛会 SEMICON China 2024启幕,
了解更多2024年3月22日 该设备专为中国市场定制,并结合半导体行业生产特点,将德国的设计经验和理念与中国本土化生产配套能力优势联合,采用PVT法 (物理气相传输工艺)生产碳化硅
了解更多知乎资讯. 中国,上海 —2024年3月20日,半导体行业盛会 SEMICON China 2024启幕,全球高端半导体设备制造商德国PVA TePla集团再次亮相,并向行业展示其最新打造的国产碳
了解更多2024年3月29日 近日,在国际盛会SEMICON China 2024上,全球高端半导体设备制造商德国PVA TePla集团亮相,并向行业展示了其为中国市场定制化的碳化硅晶体生长设
了解更多2024年3月23日 该设备专为中国市场定制,并结合半导体行业生产特点,将德国的设计经验和理念与中国本土化生产配套能力优势联合,采用PVT法(物理气相传输工艺)生产碳化
了解更多2024年3月28日 作为全球高端半导体设备制造商,来自德国的PVA TePla同样亮相本次展会,并对外展示旗下最新产品——首款国产碳化硅晶体生长设备“SiCN”。 专为 ...
了解更多2024年3月22日 该设备专为中国市场定制,并结合半导体行业生产特点,将德国的设计经验和理念与中国本土化生产配套能力优势联合,采用PVT法 (物理气相传输工艺)生产碳化硅
了解更多2024年3月22日 德国PVA TePla集团已在全球范围内销售SiC晶体生长系统,并与全球领先的主流碳化硅衬底材料供应商共同研发并为其提供长晶设备,其设备稳定性和产品质量一
了解更多2024年3月27日 德国PVA TePla推出首款碳化硅晶体生长设备. 来源:ictimes 发布时间:2024-03-27 分享至微信. 2024年3月20日至22日,全球半导体产业盛会SEMICON China 2024在
了解更多2024年3月22日 德国PVA TePla集团已在全球范围内销售SiC晶体生长系统,并与全球领先的主流碳化硅衬底材料供应商共同研发并为其提供长晶设备,其设备稳定性和产品质量一
了解更多2021年4月1日 西安博尔新材料有限责任公司(展位号:B155)是一家专门从事高品质碳化硅(SiC)微粉及其下游制品研发、生产、销售的国家级高新技术企业,自主发明工业化生产的立方碳化硅(β-SiC)等产品,质量达到世
了解更多2023年2月26日 上海超威纳米科技有限公司立足于微纳米超细新型粉体材料的开发及应用技术推广,逐渐扩大微纳米粉体的工业应用价值,寻求更新的生产方法、创新型的生产工艺,大力降低生产成本,为高新企业使用微
了解更多2024年3月27日 这一产品结合了半导体行业的生产特点,将德国的设计经验与中国本土化生产能力相结合,采用PVT法(物理气相传输工艺)生产碳化硅晶体。据悉,该款设备计划于2024年第二季度投入市场。 “SiCN”设备的设计充分考虑了工艺特性,旨在实现更低能耗和更
了解更多2023年11月12日 综合来看,国内碳化硅关键设备产业已经逐步发力,大部分设备类型都已有国产替代方案,在碳化硅产业爆发的情况下,未来碳化硅设备市场也将不断增大,预计此轮利好将持续2-3年,在此期间碳化硅设备需求将持续增长,将为国内设备厂商带来巨大的发展
了解更多中国,上海—2024年3月20日,半导体行业盛会 SEMICON China 2024启幕,全球高端半导体设备制造商德国PVA TePla集团再次亮相,并向行业展示其最新打造的国产碳化硅晶体生长设备“SiCN”。该设备专为中国市场定制,
了解更多2023年2月26日 年国内纳米银烧结设备市场规模为30 亿元。受益标的:(1)宇环数控:国内稀 缺的高端数控机床研发制造企业,以超硬材料机加工核心技术为基,切入碳化硅 研磨设备。(2)快克股份:深耕微电子封装三十年,在二级封装锡焊设备领域国
了解更多碳化硅化学气相沉积外延设备. 碳化硅外延设备属半导体设备领域,占据第三代半导体产业链上游关键环节。. 我司碳化硅外延设备采用自主创新的结构设计,同时兼容6英寸、4英寸外延片生长,是一款工艺指标优异、耗材成本低、维护频率低的中国首台完全自主 ...
了解更多2023年12月11日 据武汉经开区消息,12月8日,吉盛微公司武汉碳化硅制造基地在武汉经开综合保税区正式投产。 今年2月,在上海举行的2023武汉招商引资推介大会上,盛吉盛半导体武汉碳化硅项目签约落地武汉经开区,总投资约15亿元。
了解更多2020年6月16日 半导体制造之设备篇. 半导体需要的设备比较繁杂,在晶圆制造中,由于光刻、刻蚀、沉积等流程在芯片生产过程中需要20到50次的反复制作,是芯片前端加工过程的三大核心技术,其设备价值也最高,但半导体制造设备远远不止这些,本文将一一比较国产化
了解更多2020年1月9日 西安博尔新材料有限责任公司. 是一家专门从事高品质碳化硅(SiC)微粉和晶须及其下游制品等研发、生产、销售的国家级高新技术企业,自主发明实现工业化生产立方碳化硅(β-SiC)微粉和晶须的专业企业。. 总投资1.86亿元,生产的立方碳化硅(β-SiC)等
了解更多2022年8月5日 华美新材始终致力于研发和产销高性能碳化硅粉体及陶瓷制品。. 1995年,潍坊华美从德国FCT公司引进先进技术与设备,成为了我国首家碳化硅制造商,并在此之后,自主研发了十几种高新技术产品,填补
了解更多2021年4月29日 或将改变国际碳化硅外延产业格局. 碳化硅产业链主要分为晶片制备、外延生长、器件制造、模块封测和系统应用等几个重要的环节。. 其中外延生长是承上启下的重要环节,具有非常关键的作用。. 图3 碳化
了解更多二、烧结设备供应商. 1. Boschman. Boschman 提供两种银烧结解决方案:对于研发、原型制作和小批量生产,提供半自动 Sinterstar Innovate 系列。. 而对于高效、高质量的中到大批量生产,Sinterstar Auto 和 Inline 系列是最佳选择。. Sinterstar Innovate 系列. 这是最通用的半
了解更多2020年1月29日 随着对碳化硅(SiC)技术需求的激增,一些第三方代工厂商正在进入或扩大他们在该领域的努力。 然而,对碳化硅代工供应商和他们的客户来说,要想在市场上取得显著的进展并不容易。 它们正面临来自Cree、英飞凌(Infineon)、Rohm和意法半导体(STMicroelectronics)等传统SiC器件供应商的激烈竞争。
了解更多设备名称 型号 用途 图片 1 电感耦合等离子体刻蚀系统 德国 SENTECH SI500 该系统可以对硅、氧化硅、氮化镓和氧化锌等材料进行微纳米刻蚀。主要用于刻蚀制备基于III-V族,II-VI族和硅锗及其氧化物和氮化物等的纳米器件。 2 等离子体增强化学气象沉积
了解更多2024年3月29日 德国PVA TePla发布为中国定制的首款碳化硅生产设备“SiCN”. 近日,在国际盛会SEMICON China 2024上,全球高端半导体设备制造商德国PVA TePla集团亮相,并向行业展示了其为中国市场定制化的碳化硅晶体生长设备——SiCN。. 德国PVA TePla集团半导体业务中国区负责人谢秀 ...
了解更多2024年2月18日 目前,碳化硅外延工艺主要有化学气相沉积(CVD)、液相外延生长(LPE)和分子束外延生长(MBE)。. 其中,CVD是目前工业中应用最为广泛和成熟的方法。. 目前,市场主要被德国的AIXTRON SE、意大利的LPE、日本的TEL和Nuflare四大厂商占据。. 然而,受限于产能因素 ...
了解更多2024年3月20日, 半导体 行业盛会 SEMICON China 2024启幕,全球高端半导体设备制造商德国PVA TePla集团再次亮相,并向行业展示其最新打造的国产 碳化硅 晶体生长设备“SiCN”。. 该设备专为中国市场定制,并结合半导体行业生产特点,将德国的设计经验和理念
了解更多重磅!32.7亿打造的碳化硅生产基地正式启用 2024/02/29 点击 827 次 中国粉体网讯 2月27日,第三代半导体碳化硅材料生产基地 在宝安区启用。 项目是由深圳市重投天科半导体有限公司(以下简称“重投天科”)建设运营,预计今年衬底和外延产能达 25万片,将进一步补强深圳第三代半导体“虚拟全 ...
了解更多2021年7月6日 一、刻蚀+MOCVD 龙头,技术驱动对标前沿科技. 1.1 专注高端半导体设备. 国内领先、世界排名前列的半导体高端设备制造商。. 公司自成立以来主要从事半导体设备的研发、生产和销售。. 公司以中国为基地,为全世界提供高端半导体微观加工设备。. 主营业
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